半导体空气洁净解决方案

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半导体空气洁净解决方案

ISO Class 1 - Class 8 洁净等级全覆盖，超强适配，守护晶圆每1纳米！

四大核心优势
半导体行业解决重点

  • 颗粒污染控制

    ULPA级要求

  • 能耗与压降

    FFU系统电耗

  • 稳定性与良率

    波动导致产能损失

  • AMC分子污染

    光刻镜头/掩膜风险

解决方案

在先进半导体制造中，洁净空气系统需同时应对颗粒污染、气态分子污染物（AMC）、高能耗与运行稳定性四大挑战；如图所示，我们通过在Fab厂关键区域精准部署FFU、ULPA过滤单元、机台端EFU微环境及化学过滤模块，构建覆盖全域、分层协同的洁净解决方案——顶部单向流保障整体环境，局部微环境守护核心工艺，AMC治理消除隐形风险，低阻高效设计降低压降与能耗，全方位支撑纳米级制程的高良率与可持续生产。（以上方案描述仅供参考，以实际为准）

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    KLC风机过滤单元

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    KLC风机过滤单元

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    KLC风机过滤单元

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    KLC风机过滤单元

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